NX5000


FIB-SEM
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EL triple haz de Hitachi. Haz FE de electrones para la obtención de imágenes SEM. Haz de Galio para los trabajos realizados en FIB, eliminación de material y deposición de material. Y gracias a su tercer haz de Ar la obtención de lamelas perfectas sin degradación debida a la alta agresividad del Ga.

Resolución SEM

  • 1.5 nm (1 kV)
  • 0.7 nm (15 kV)

Resolución FIB

  • 4 nm(30 kV)
  • 60 nm (2 kV)