Metallizers Standard Q150R Plus
| Proveedores | Hitachi |
| Sectores | Alimentación-Agua y MedioAmbiente, Automoción-Aeronautica, Energía-Electrónica, Farmaceutico-Cosmetica-Biotecnológia, I+D-Servicios Laboratorio-Docencia, Químico – Metales y Minerales |
| Parámetros de Medida | Preparación Muestras SEM y TEM |
| Tipos de Muestra | Sólidos |
Características Principales:
- Metalización por sputtering, evaporación de carbón o ambos: sistema modular que comparte plataforma
- Capaz de alcanzar presiones de 2 x 10-3 mbar
- Nueva pantalla táctil
- Puerto USB para actualizaciones y descarga de archivos de registro de procesos
- Perfiles multiusario en la misma máquina
- Los protocolos de trabajo pueden ordenarse por usuario y fecha de uso
- Memoria interna de 16 Gb con capacidad para 1000 recetas
- Indicador de estado del sistema LED multicolor
- Soportes de muestra intercambiables
El sistema ha sido diseñado como opción modular, estando disponible en diferentes configuraciones diferentes:
- Q150RS Plus: Metalizador por sputtering
- Q150RE Plus: Evaporador de fibra de carbón
- Q150RES Plus: Sistema combinado de sputtering y evaporación de fibra y barra de carbón
Especificaciones Q150Rplus
Chasis
- 585mmx 470mmx 410mm (anchura x profundidad x altura)
Altura total con el cabezal de recubrimiento abierto: 650mm
Peso
- 28,4 kg (embalado 42 kg)
Dimensiones embalaje
- 725mm x 660mm x 680mm (anchura x profundidad x altura)
Cámara de trabajo
- Cristal borosilicato de alta calidad 150mm (diámetro interno) x 127mm (altura)
Pantalla
- Pantalla táctil color: area activa: 115,5mm x 86,4mm (anchura x altura), 640 RGB x 480,
Control Usuario
- Software gráfico a color con botones táctiles. Incluye registro de los 1000 últimos recubrimientos y recordatorios de mantenimiento cuando se activan los temporizadores de mantenimiento.
Target de sputtering
- Forma de disco de 57mm ø x 0,1mm. En las versiones R S y R ES se suministra un blanco de oro (Au)
Plataforma de soporte de muestras
- Plataforma rotatoria de 50mm ø con velocidad de rotación variable de 8-20 rpm. Existen otros soportes opcionales
Vacio
- Bomba de vacío: rotatoria de 2 etapas de 5 m3/hr con filtro de aceite.
- Medida de vacio: Medidor pirani.
- Vacio último: 2 x 10-3 mbar*
- Presión sputtering: entre 7 x 10-3 y 1 x 10-1 mbar para oro
* Presión tipica alcanzada por el sistema de vacio en un equipo limpio después de despresurizar previamente y presurizar con nitrógeno
Procesos
- Metalización por sputtering: Corriente de sputter 0-150 mA hasta alcanzar un espesor de deposición predeterminado (con el medidor opcional FTM) o por el temporizador interno del sistema. El tiempo máximo programable para el proceso de sputtering es de 60 minutos (proceso ininterrumpido: sin romper vacio y con periodos de refrigeración automáticos)
- Evaporación: Evaporación de carbón utilizándo barras o fibra de cabrón. Evaporación térmica de metales desde filamentos o balsa. Para la limpieza de aperturas TEM se suministra una balsa de molibdeno.
Indicador de estado visual
- Los equipos 150PlusT incluyen un indicador visual de gran tamaño que permite conocer a distancia el estado del equipo en todo momento con un simple vistazo.
El indicador LED muestra los siguientes estados:
- Inicialización
- Proceso
- En espera
- Recubrimiento en progreso
- Proceso terminado
- Proceso terminado con error
También se ofrece indicación sonora para el aviso de proceso terminado
