Seleccionar página
IESMAT 9 Equipos 9 NX2000

NX2000

Sistema de haz de electrones e iones enfocados y sistema de haz triple

Los sistemas FIB-SEM se han convertido en una herramienta indispensable para la caracterización y análisis de las últimas tecnologías y materiales a nanoescala de alto rendimiento.

Una demanda cada vez mayor de láminas TEM ultrafinas sin artefactos durante el procesamiento FIB requiere lo mejor en tecnologías de óptica de iones y electrones.

El sistema FIB de alto rendimiento NX2000 de Hitachi y el sistema SEM de alta resolución con su exclusivo control de orientación de muestras y tecnologías de triple haz admiten un alto rendimiento y una preparación de muestras TEM de alta calidad para aplicaciones de vanguardia.

  • La detección de punto final SEM en tiempo real y de alto contraste permite la preparación de muestras TEM ultrafinas de dispositivos de menos de 20 nm.
  • El micromuestreo y el mecanismo de posicionamiento de alta precisión permiten el control de la orientación de la muestra para efectos anticortina (función ACE) y láminas de grosor uniforme.
  • Sistema Triple Beam : Configuración de triple haz para la reducción de daños inducidos por Ga FIB.
Columna FIB
Resolución (SIM) 4 nanómetro a 30 kV, 60 nanómetro a 2 kV
Tensión de aceleración 0,5 kV – 30 kV
haz de corriente 0,05 pA – 100 nA
Columna FE-SEM
Resolución 2,8 nanómetro a 5 kV, 3,5 nanómetro a 1 kV
Tensión de aceleración 0,5 kV – 30 kV
fuente de electrones Fuente de emisión de campo de cátodo frío
Detector
Detector estándar SED superior/inferior y BSED
Escenario X: 0 – 205 mm
Y: 0 – 205 mm
Z: 0 – 10 mm
R: 0 – 360° infinito
T: -5 – 60°

Puedes ver todos los artículos del catálogo de IESMAT aqui

Para obtener más información acerca de este producto