SU3800/3900
1. La cámara de muestra sustancialmente más grande acomoda muestras pesadas y de gran tamaño
-Platina robusta para flexibilidad en el tamaño,forma y el peso
- La secuencia de intercambio de muestras evita posibles daños al sistema o a la muestras.
- Intercambie las muestras sin ventilar la cámara de muestras, lo que mejora el rendimiento.
- Aumente la manipulación de muestras con Stage Free Mode*.
- El Chamber Scope mejora la seguridad de los movimientos del escenario*.
-Área de visualización aumentada
- Pantalla de cámara integrada en la cámara
- Navegue fácilmente por toda el área observable
- Rotación orientada al detector
2. Evolución del mercado:
Funciones automáticas mejoradas para operadores de cualquier nivel de habilidad
-Múltiples modos de operación
-Funciones automáticas para operadores de cualquier nivel de actividad
- Algoritmos automáticos mejorados: 3 veces más rápido (en comparación con el modelo Hitachi S-3700N)
- Función de enfoque automático mejorada
- Características de nuestra tecnología patentada de filamento inteligente (IFT):
-Multi ZigZag permite la observación de área amplia en múltiples áreas.
-Report Creator genera importes de los datos adquiridos.
3.Soluciones integradas para varias aplicaciones
-Una variedad de accesorios que se pueden montar en cualquiera de los 20 puertos de la innovadora cámara de muestras SU3900
-Sistema de Integración SEM/EDS
-Detectores de alta sensibilidad compatibles con todos los requisitos de observación.
- CL observación usando UVD*
- El BSED segmentado permite visualizar la composición y la topografía.
-Soporte STEM
-Software de modelado 3D
-Software de análisis, medición y procesamiento de imágenes
Elementos | Características del producto | ||
SU3800 | SU3900 | ||
Resolución de electrones secundarios | 3,0 nm (tensión de aceleración de 30 kV, WD=5 mm, modo de alto vacío) | ||
15,0 nm (tensión de aceleración 1 kV, WD=5 mm, modo de alto vacío) | |||
Resolución de electrones retrodispersados | 4,0 nm (tensión de aceleración de 30 kV, WD=5 mm, modo de vacío bajo) | ||
Aumento | ×5 a ×300,000 (ampliación de la imagen*1) | ||
×7 a ×800,000 (ampliación de la visualización real*2) | |||
Voltaje de aceleración | 0,3 kV a 30 kV | ||
Configuración del modo de vacío bajo | 6 a 650 Pa | ||
Cambio de imagen | ± 75 µm (WD=10 mm) | ||
Tamaño máximo de muestra | Φ 200 mm | Φ 300 mm | |
Etapa del espécimen | X | 0 a 100 mm | 0 a 150 mm |
Y | 0 a 50 mm | 0 a 150 mm | |
Z | 5 a 65 mm | 5 a 85 mm | |
R | 360° en modo continuo | ||
T | -20 a +90° | ||
Rango móvil máximo | Φ 130 mm (en combinación con R) | Φ 200 mm (en combinación con R) | |
Altura máxima móvil | 80 mm (ancho de banda = 10 mm) | 130 mm (Ancho = 10 mm) | |
Impulsión del motor | Accionamiento por motor de 5 ejes | ||
Óptica de electrones | Pistola de electrones | Filamento de horquilla de tungsteno tipo cartucho precentrado | |
Apertura de la lente del objetivo | Apertura móvil de 4 orificios | ||
detectores | Detector de electrones secundarios, detector de electrones retrodispersados de semiconductores sensibles | ||
WD para análisis EDX | Ancho de banda = 10 mm (TOA = 35°) | ||
Pantalla de imagen | Alineación automática del eje. Función | Control de haz: automático (AFS→ABA→AFC→ABCC) | |
Ajuste del eje óptico: automático (alineación actual) | |||
Brillo del haz: automático | |||
Función de ajuste automático de imagen | Control automático de brillo y contraste (ABCC) | ||
Control de enfoque automático (AFC) | |||
Auto estigma y enfoque (ASF) | |||
Saturación automática de filamentos (AFS) | |||
Alineación automática de haz (ABA) | |||
Inicio automático (HV-ON→ABCC→AFC) | |||
Funcionamiento Función auxiliar | Rotación de trama, enfoque dinámico, función de mejora de imagen, entrada de datos (medición de punto a punto, medición de ángulo, textos), ampliación preestablecida, función de navegación de posicionamiento de escenario (SEM MAP), función de marcado de haz |