Seleccionar página
IESMAT 9 Equipos 9 ZONE SEM II

ZONE SEM II

Limpiador de muestras de mesa

La preparación, manipulación o almacenamiento de muestras en condiciones atmosféricas puede aumentar la acumulación de hidrocarburos en la muestra y, bajo la influencia de un haz de electrones, estos hidrocarburos pueden formar una capa gruesa en la superficie.

  • La limpieza de la superficie de la muestra con ZONESEMII elimina los hidrocarburos y reduce las moléculas disponibles para la contaminación inducida por el haz. La prevención de la contaminación de las superficies de las muestras es esencial para una verdadera observación en microscopía electrónica.
  • ZONESEMII utiliza radiación UV controlada por vacío y oxígeno activado para eliminar suavemente los hidrocarburos de la superficie de la muestra antes de la toma de imágenes y sin el uso de productos químicos o reactivos.

Con un tamaño adecuado para el laboratorio y una pantalla táctil intuitiva, el ZONESEMII de segunda generación es un complemento seguro y fácil de usar para cualquier laboratorio.

Diseñado específicamente para los portamuestras de Hitachi, el ZONESEMII proporciona modos de funcionamiento optimizados para la limpieza y el almacenamiento de muestras.

El ZONESEMII sirve como un excelente desecador para evitar la desgasificación del soporte.

  • Panel de pantalla táctil fácil de usar
  • Programable hasta 24hrs
  • Control de presión variable
Descripción
N º de Modelo. ZONA-2010
Lámpara ultravioleta Longitudes de onda: 184 nm, 254 nm
(luz visible, luz verde e infrarroja)
Tamaño de muestra 100 mm (profundidad) × 37 mm (altura)
Modo de proceso Modo de limpieza UV, modo de almacenamiento al vacío
Configuración de vacío Configurable por 100 fases de presión de vacío
Tiempo de fraguado del proceso Un minuto a aproximadamente 24 horas
Bomba aspiradora Sistema de escape de vacío seco
Exclusión de ozono Dispositivo de exclusión de ozono incorporado
Dimensión de la unidad 310 mm (ancho) × 260 mm (profundidad) × 305 mm (alto)
Peso 18 kg
Condición de configuración
Descripción
Temperatura ambiente 15 – 30 grados C
Humedad ≤ 70% (sin condensación de rocío)
Fuente de alimentación Fuente de alimentación: CA 100 V – 240 V (±10 %), 50/60 Hz 0,14 kVA
gas usado Ar (argón) gas
Sistema de control de flujo de gas Ar Controlador de caudal másico
Tensión de aceleración 0,0 a 6,0 kV
Tamaño 616 (ancho) × 736 (profundidad) × 312 (alto) mm
Masa Unidad principal: 53 kg+Bomba rotativa: 30 kg
Fresado de sección transversal
Tasa máxima de fresado (Material: Si) 500 μm/h *1 o más
Tamaño máximo de muestra 20 (ancho) × 12 (profundidad) × 7 (alto) mm
Rango de movimiento de muestras X±7 mm, Y 0 a +3 mm
Irradiación intermitente de haz de iones Rango de ajuste ON/OFF 1 seg a 59 min 59 seg
Ángulo de giro ±15°, ±30°, ±40°
Fresado de sección transversal de área amplia
Fresado plano
Área máxima de fresado φ32 mm
Tamaño máximo de muestra Φ50×25 (H) milímetro
Rango de movimiento de muestras ×0 a +5 mm
Irradiación intermitente de haz de iones Rango de ajuste ON/OFF 1 seg a 59 min 59 seg
Velocidad de rotación 1 rpm, 25 rpm
Ángulo de giro ±60°, ±90°
Ángulo de irradiación del haz de iones 0 a 90°

Puedes ver todos los artículos del catálogo de IESMAT aqui

Para obtener más información acerca de este producto