Pi-Kem
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Pi Kem Ø100 mm obleas de silicio con óxido térmico SiO₂ 300 nm
Solicitar presupuesto. Obleas de silicio monocristalino recubierta con una capa de óxido térmico de SiO₂ de 300 nm. Ideal para procesos de deposición, caracterización superficial y microfabricación. -
Sustratos de zafiro (Al₂O₃) tamaño 5×5 mm – Deposición y análisis
Sustrato monocristalino de zafiro (Al₂O₃) de alta pureza, ideal para aplicaciones en deposición de capas delgadas, caracterización óptica y electrónica. Dimensiones: 5 mm x 5 mm x 0.5 mm -
Wafer sustrato cristalino monocapa de dióxido de silicio fundido (SiO₂)
Oblea (SiO₂) de alta pureza, ideal para aplicaciones en microscopía, deposición de películas delgadas y caracterización de materiales. Presentación en formato individual. -
Wafers de cristal zafiro (Al₂O₃) para microscopía óptica y láser
Zafiro monocristalino de alta pureza, disponible en varios diámetros y grosores. Ideal para aplicaciones en óptica, láser, espectroscopía y entornos extremos. -
Ø3″ Oblea LiNbO3 niobato de litio dopada con óxido de magnesio
Solicitar presupuesto. (LiNbO₃) Wafer dopado con MgO, corte Z, doble cara pulida. Ideal para aplicaciones en óptica no lineal, fotónica y caracterización láser.
