Sustratos y muestras de referencia AFM
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AFM/STM Discos metálicos PELCO® recubiertos de oro de alta pureza
Discos de acero inoxidable magnético recubiertos con oro de alta pureza, diseñados como sustratos para microscopía AFM/STM. Alta conductividad y estabilidad térmica. -
Discos de Mica V1 máx. calidad – AFM V1 Mica discs Ø10mm – pack 10
Wafers (obleas) de mica de grado más alto V1 de 10mm de diámetro, paquete de 10 discos. Aplicaciones en microscopía y semiconductores.
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Láminas de Mica de máxima calidad – Mica Sheets V1 para AFM
Las láminas “Mica Sheets” calidad V1 son ideales para aplicaciones de microscopía y preparación de muestras, ofreciendo superficies limpias y planas. Espesor de 0.15 a 0.177mm (0.006 – 0.007″)
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Oblea de silicio Ø2″ (diámetro 5 cm) recubierta de oro
Wafer u oblea recubierta de una capa de oro de 50nm sobre silicio tipo P <111> de 500µm. Ideal para aplicaciones en nanotecnología y biotecnología.
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Soporte de muestra para AFM, acero inoxidable, compatible con Veeco/Bruker
Soporte de muestra circular para microscopía de fuerza atómica (AFM), fabricado en acero inoxidable. Compatible con sistemas Veeco/Bruker y otros equipos AFM estándar.
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Sustratos Al2O3 C-Plane alta pureza varias medidas rectangular
Sustratos de zafiro monocristalino rectangulares (sapphire) orientados en plano C (0001), ideal para aplicaciones científicas que requieren alta transparencia óptica, resistencia térmica y estabilidad química. -
Wafer sustrato cristalino monocapa de dióxido de silicio fundido (SiO₂)
Oblea (SiO₂) de alta pureza, ideal para aplicaciones en microscopía, deposición de películas delgadas y caracterización de materiales. Presentación en formato individual. -
Wafers de silicio de alta pureza – formatos compatibles cleanroom
Wafers de silicio de alta pureza disponibles en varios diámetros, ideales para investigación en películas delgadas, semiconductores y aplicaciones avanzadas. Disponibles en versiones estándar y ultra-planas, con o sin recubrimientos.
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Ø100 mm obleas de silicio con óxido térmico SiO₂ – 300 nm
Solicitar presupuesto. Obleas de silicio monocristalino recubierta con una capa de óxido térmico de SiO₂ de 300 nm. Ideal para procesos de deposición, caracterización superficial y microfabricación. -
Ø3″ Oblea LiNbO3 niobato de litio dopada con óxido de magnesio
Solicitar presupuesto. (LiNbO₃) Wafer dopado con MgO, corte Z, doble cara pulida. Ideal para aplicaciones en óptica no lineal, fotónica y caracterización láser.
