Evaporación de carbono y targets
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Alambre platino para evaporación 99,95% Ø0,20 mm – 60cm
Alambre de alta pureza de platino para sistemas de evaporación de alto vacío.
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Cestas de evaporación con recubrimiento de alúmina
Cestas de tungsteno recubiertas de alúmina para evaporación térmica en vacío. Funcionan con fuentes de baja potencia y permiten evaporar múltiples materiales.
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Target anular Au:Pd 60/40 (82x60x0.1mm) equipos Polaron-Quorum
Target anular de alta pureza (99.99%) compuesto por una aleación de Oro y Paladio (60/40). Diseñado para sistemas de recubrimiento Polaron y Quorum que requieren una geometría de deposición anular.
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Target de Oro/Paladio (Au:Pd 60/40) Ø54mm para Sputter Coater
Target de deposición de alta pureza (99.99%) compuesto por una aleación de Oro y Paladio en proporción 60/40. Diseñado específicamente para sistemas de recubrimiento Leica, Bal-Tec y MED.
Nota: la imagen es una recreación digital, puede no coincidir con el color, brillo o grosor del target original.
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Target de Platino para Recubrimiento, Disco 54 mm Ø x 0,2 mm, Tipo 3
Blanco de platino en formato disco para sistemas de recubrimiento por sputtering, diseñado para equipos tipo 3. Alta pureza y precisión para aplicaciones científicas. -
Targets de alta pureza para sputter coater Ø57 mm – Ø28 mm
Targets de pulverización de alta pureza para sputter coaters tipo Cressington, Quorum o BESC. Disponibles en metales nobles y en otros metales o aleaciones.
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Targets de oro y platino alta pureza para sputter coater Ø50 – Ø30 mm
Targets de oro (Au) y platino (Pt) están disponibles en tamaño pequeño, compatibles con equipos como Seceng, GSEM, Supro y Quorum.
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Varilla de tungsteno cromado de alta pureza para evaporación térmica
Varilla de tungsteno (W) de alta pureza recubierta con una capa galvánica de cromo (Cr). Diseñada para procesos de deposición de película delgada mediante evaporación térmica en sistemas de baja potencia.
