Evaporación de carbono y targets
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Alambre platino para evaporación 99,95% Ø0,20 mm – 60cm
Alambre de alta pureza de platino para sistemas de evaporación de alto vacío.
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Cestas de evaporación con recubrimiento de alúmina
Cestas de tungsteno recubiertas de alúmina para evaporación térmica en vacío. Funcionan con fuentes de baja potencia y permiten evaporar múltiples materiales.
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Cestas y espiras de filamento de tungsteno para evaporación
Cestas de tungsteno monohilo de alta pureza diseñadas para sistemas de recubrimiento en microscopía electrónica. Ideales para la deposición de películas delgadas mediante fuentes de alimentación de baja potencia (30-50A).
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Navecillas (boats) de tungsteno para evaporación y deposición
Fuentes de evaporación térmica de tungsteno de alta pureza para procesos de deposición por vacío. Diseñadas para garantizar estabilidad térmica y máxima pureza en la preparación de muestras de microscopía electrónica.
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Target anular Au:Pd 60/40 (82x60x0.1mm) equipos Polaron-Quorum
Target anular de alta pureza (99.99%) compuesto por una aleación de Oro y Paladio (60/40). Diseñado para sistemas de recubrimiento Polaron y Quorum que requieren una geometría de deposición anular.
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Targets de platino para sputter coater Ø 54 mm x 0,2 mm
Blanco de platino en formato disco para sistemas de recubrimiento por sputtering, diseñado para equipos tipo 3. Alta pureza y precisión para aplicaciones científicas. -
Varilla de tungsteno cromado de alta pureza para evaporación térmica
Varilla de tungsteno (W) de alta pureza recubierta con una capa galvánica de cromo (Cr). Diseñada para procesos de deposición de película delgada mediante evaporación térmica en sistemas de baja potencia.
