Inicia sesión para ver precios y solicitar tu presupuesto.
¿Nuevo por aquí? Crea tu cuenta en segundos.
Wafer sustrato cristalino monocapa de dióxido de silicio fundido (SiO₂)
Descripción
Este sustrato cristalino de dióxido de silicio (SiO₂) fundido se utiliza ampliamente en laboratorios de investigación para aplicaciones ópticas, electrónicas y de caracterización superficial. Gracias a su alta transparencia en el espectro UV-visible y su baja rugosidad superficial, es adecuado para técnicas de deposición como sputtering, evaporación térmica y epitaxia.
El SiO₂ fundido ofrece una excelente estabilidad térmica y química, lo que permite su uso en entornos exigentes sin degradación. Su estructura amorfa reduce interferencias ópticas, siendo ideal para estudios espectroscópicos y de interferometría.
Este tipo de sustrato también se emplea como soporte en análisis de AFM, SEM y técnicas de espectroscopía Raman, entre otras.
Especificaciones técnicas
- Material: Dióxido de silicio (SiO₂) fundido
- Formato: Cristalino, monocapa
- Presentación: 1 unidad
- Transparencia: Alta en UV-visible
- Rugosidad superficial: Baja
- Estabilidad térmica: Excelente
- Compatibilidad: Técnicas de deposición y microscopía avanzada
- Aplicaciones: AFM, SEM, deposición de capas delgadas, espectroscopía.
