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Patrón de Magnificación MRS-4 SEM Micrómetro de Etapa (certificado)
| Miniatura | SKU | Regla de calibración | Certificación | Montaje - protección | Contenido | Existencias | Precio | Cantidad | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
 | 614-71B | N/A | Trazable con certificación | N/A | servicio recalibración y limpieza | Bajo pedido | |||
| 614-822 | X-Y | Trazable con certificación | No montado, sin retenedor | Unidad | Bajo pedido |
Descripción
El MRS-4 es un patrón de magnificación de quinta generación diseñado para calibrar sistemas de microscopía electrónica de barrido (SEM), incluyendo modos SE y BSE, así como otras técnicas como FIB, TEM (versión especial), STM, AFM y microscopía óptica.
Fabricado mediante escritura directa con haz de electrones, el patrón presenta una estructura de cromo antirreflectante (30 nm CrO₂ sobre 40 nm Cr) sobre sustrato de cuarzo, con recubrimiento conductor para permitir la imagen SEM a cualquier voltaje de aceleración.
Su diseño geométrico incluye patrones de paso de 0,5 µm a 500 µm, y reglas X/Y de 6 mm con incrementos de 1 µm, cubriendo un rango de magnificación desde 10x hasta 1.000.000x.
Es ideal para calibración en análisis químicos como EDS, WDS, XRF, XPS y Auger, así como para conteo de partículas. Se recomienda el uso de retenedores protectores debido a la fragilidad del cuarzo.
Especificaciones técnicas
- Rango de magnificación: 10x a 1.000.000x
- Resolución mínima: 80 nm
- Material: Cuarzo con patrón de CrO₂/Cr
- Recubrimiento: Conductivo, apto para SEM a cualquier voltaje
- Diseño geométrico: Cuadrados anidados con pasos de 0,5 µm, 1 µm, 2 µm, 50 µm y 500 µm
- Dimensiones del patrón: 8 mm x 8 mm (zona activa), tamaño total 9 x 9 x 2,3 mm
- Reglas X/Y: 6 mm con incrementos de 1 µm
- Aplicaciones: SEM, FIB, TEM, STM, AFM, microscopía óptica, EDS, WDS, XRF, XPS, Auger
- Compatible con campo claro/oscuro, contraste diferencial y confocal
- Recomendación: Uso con retenedores protectores (opcional)
