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Pelco Holey Silicon – Film soporte de nitruro de silicio perforado-
| Miniatura | SKU | Cantidad | Espesor | Tamaño aperturas | Número aperturas | Tamaño ventana | Existencias | Precio | Cantidad | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
 | 21510-10-1 | 10 | 8nm | 60x60µm | 25 | 0.5x0.5mm | 1 disponibles | |||
| 21579-10-1 | 10 | 50nm | 50x50µm | 1 | 0.1x0.1mm | 1 disponibles | |||
| 21501-10-1 | 10 | 50nm | 1 | 0.75x0.75mm | Bajo pedido | ||||
| 21525-10-1 | 10 | 200nm | 1 | 0.25x0.25mm | 1 disponibles | ||||
| 21514CL-10-1 | 10 | 100nm | 1 | 1.0x1.0mm | 2 disponibles | ||||
| 21529-10-1 | 10 | 200nm | 1 | 0.5x0.5mm | 1 disponibles | ||||
| 21519-10-1 | 10 | 50nm | 1 | 0.5x0.5mm | 4 disponibles |
Descripción
Los films de nitruro de silicio perforado ofrecen una plataforma robusta y de baja tensión para estudios de alta resolución en TEM. Fabricados sobre un marco de silicio de 3 mm de diámetro, incorporan una membrana central de 0.5 x 0.5 mm con espesor de 200 nm. Los poros distribuidos en la membrana permiten una excelente visibilidad y contraste en técnicas de imagen y espectroscopía.
Disponibles en múltiples tamaños de poro (desde 70 nm hasta 1250 nm), estos soportes son especialmente útiles en aplicaciones de caracterización de nanopartículas, análisis de estructuras biológicas, y estudios de materiales en estado sólido. Su estabilidad térmica y química los hace compatibles con una amplia gama de condiciones experimentales.
Especificaciones técnicas
- Material: Nitruro de silicio amorfo de baja tensión
- Espesor de la película: 200 nm
- Diámetro del soporte: 3 mm
- Tamaño de la ventana: 0.5 x 0.5 mm
- Tamaños de poro disponibles: 70–100 nm, 150 nm, 250 nm, 350 nm, 400 nm, 600 nm, 900 nm, 1250 nm
- Alta compatibilidad con TEM y STEM
- Excelente estabilidad térmica y química
- Superficie hidrofílica opcional (según modelo)
- 21500-10_to_21525-100_21535_21540-10_to_21542-10_21555_MSDS
