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Membranas de nitruro de silicio para TEM, 8–200 nm múltiples ventanas
| Miniatura | SKU | Cantidad | Espesor | Tamaño aperturas | Número aperturas | Tamaño ventana | Existencias | Precio | Cantidad | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
 | 21510-10-1 | 10 | 8nm | 60x60µm | 25 | 0.5x0.5mm | 1 disponibles | |||
| 21579-10-1 | 10 | 50nm | 50x50µm | 1 | 0.1x0.1mm | 1 disponibles | |||
| 21501-10-1 | 10 | 50nm | 1 | 0.75x0.75mm | Bajo pedido | ||||
| 21525-10-1 | 10 | 200nm | 1 | 0.25x0.25mm | 1 disponibles | ||||
| 21514CL-10-1 | 10 | 100nm | 1 | 1.0x1.0mm | 2 disponibles | ||||
| 21529-10-1 | 10 | 200nm | 1 | 0.5x0.5mm | 1 disponibles | ||||
| 21519-10-1 | 10 | 50nm | 1 | 0.5x0.5mm | 4 disponibles |
Descripción
Las PELCO® Silicon Nitride Support Films son soportes avanzados para microscopía electrónica de transmisión (TEM), fabricados mediante técnicas semiconductoras y MEMS patentadas. Ofrecen membranas ultra-planas y resistentes, con espesores de 8, 15, 35, 50, 100 y 200 nm, montadas sobre un marco de silicio de 3 mm con bordes EasyGrip™ para manipulación segura.
Estas membranas son químicamente y mecánicamente robustas, soportan temperaturas de hasta 1000 °C y permiten experimentos en condiciones extremas, incluyendo limpieza por plasma y descarga luminosa. Disponibles en múltiples tamaños de ventana (0,25 × 0,25 mm hasta 0,5 × 1,5 mm) y versiones con ventanas múltiples para aplicaciones como tomografía electrónica.
Ideales para estudios de nanopartículas, películas delgadas, biología celular y caracterización de materiales, ofreciendo un fondo libre de carbono para imágenes TEM de alta resolución.
Especificaciones técnicas
- Material: Nitruro de silicio amorfo, ultra-baja tensión.
- Espesores disponibles: 8, 15, 35, 50, 100 y 200 nm.
- Ventanas:
- Individuales: 0,25 × 0,25 mm, 0,5 × 0,5 mm, 0,75 × 0,75 mm, 1,0 × 1,0 mm, 0,5 × 1,5 mm.
- Múltiples: 9 × 0,1 × 0,1 mm (matriz 3 × 3) o 2 × 0,1 × 1,5 mm.
- Marco: Silicio Ø 3 mm, grosor estándar 200 µm (opción 50 µm para soportes especiales).
- Bordes EasyGrip™ para manipulación segura.
- Resistencia térmica: Hasta 1000 °C.
- Compatibilidad: TEM, SEM, EDX, XPS, AFM.
- Limpieza: Glow discharge y plasma (no usar ultrasonidos).
- Rugosidad superficial: Rq ≈ 0,65 nm; Ra ≈ 0,45 nm.
- Presentación: Caja de 10 unidades, embaladas en condiciones de sala limpia.
- 21500-10_to_21525-100_21535_21540-10_to_21542-10_21555_MSDS
