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Sustrato de nitruro de silicio TEM – Silicon Nitride Support Film
(-21%)
Las PELCO® Silicon Nitride Support Films son películas de soporte de nitruro de silicio para TEM. Robustas y estables, temperaturas de hasta 1000°C. Formato: paquetes de 10, 100 ó 1 unidad.
| Miniatura | SKU | Cantidad | Grosor | Nº aperturas | Tamaño ventanas | Nº ventanas | Existencias | Precio | Cantidad | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 21512-10 | Pack de 10 | 0.75x0.75mm | Bajo pedido | |||||||
![]() | 21510-10 | Pack de 10 | 0.5x0.5mm | Bajo pedido | ||||||
![]() | 21579-10 | Pack de 10 | 0.1x0.1mm | 1 disponibles | ||||||
| 21501-10 | Pack de 10 | 0.75x0.75mm | 1 disponibles | |||||||
| 21525-10 | Pack de 10 | 0.25x0.25mm | 1 disponibles | |||||||
| 21514CL-10 | Pack de 10 | 1.0x1.0mm | Bajo pedido | |||||||
![]() | 21529-10 | Pack de 10 | 0.1x0.1mm | Bajo pedido | ||||||
| 21519-10 | Pack de 10 | 0.1x0.1mm | 4 disponibles |
Descripción
Fabricadas con técnicas avanzadas de semiconductores y MEMS patentadas, estas películas delgadas de nitruro de silicio inorgánico y amorfo de bajo estrés están soportadas por un marco de silicio resistente. Disponibles en seis tamaños de ventana y con membranas de 8 a 200 nm de espesor en un marco redondo estándar de 3 mm de diámetro, son muy útiles en el mercado actual. Se han añadido sustratos hidrofóbicos e hidrofílicos para aplicaciones en nanotecnología y biotecnología. Las membranas de ultra bajo estrés se han creado mediante técnicas de deposición de capas atómicas (ALD).
Especificaciones técnicas
- Material: Películas delgadas de nitruro de silicio inorgánico y amorfo de bajo estrés
Soporte: Marco de silicio resistente
Tamaños de ventana: varios tamaños disponibles, ver tabla.
Espesor de membranas: 8 a 200 nm
Diámetro total: 3 mm (estándar)
Sustratos: Hidrofóbicos e hidrofílicos añadidos para aplicaciones en nanotecnología y biotecnología
Membranas de ultra bajo estrés: 15, 50 y 200 nm, creadas mediante técnicas de deposición de capas atómicas (ALD)
Propiedades:
Químicamente y mecánicamente robustas
Soportan temperaturas de hasta 1000°C
Extremadamente estables
Aplicaciones:
Experimentos en nanotecnología con partículas o células montadas directamente sobre ellas
Investigación en nanotecnología
Permiten la deposición directa y observaciones in situ de reacciones dinámicas en un amplio rango de temperaturas
Pueden actuar como soporte pasivo o participar activamente en los experimentos 
- 21500-10_to_21525-100_21535_21540-10_to_21542-10_21555_MSDS
Preguntas Frecuentes (FAQ) Sustrato de nitruro de silicio TEM – Silicon Nitride Support Film:
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¿Qué diferencia a la membrana “continua” de la versión “holey” (perforada)?
La versión continua no tiene agujeros; es una película sólida y uniforme de nitruro de silicio. Se utiliza cuando la muestra es demasiado pequeña para sostenerse sola en un orificio o cuando se necesita un sustrato perfectamente plano para depositar películas delgadas, nanopartículas dispersas o realizar crecimiento celular directamente sobre la ventana.
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¿Es mejor el Nitruro de Silicio que el Carbono para el análisis EDX?
Sí, con diferencia. Al ser una cerámica libre de carbono, es el soporte ideal para la cuantificación de elementos ligeros. Si tu investigación busca detectar trazas de carbono, polímeros o compuestos orgánicos, esta membrana elimina el ruido de fondo que introduciría una rejilla de carbono convencional, permitiendo resultados mucho más precisos.
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¿Cómo soporta estas membranas las altas temperaturas?
El nitruro de silicio es excepcionalmente estable térmicamente. Puede soportar temperaturas de hasta 1000°C sin romperse ni deformarse. Esto las hace indispensables para estudios in situ de dinámica de materiales, como la observación de transiciones de fase, procesos de recocido o reacciones químicas catalíticas en tiempo real dentro del TEM.
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¿Se pueden limpiar estas ventanas si se contaminan?
Esta es una de sus mayores ventajas: son compatibles con métodos de limpieza agresivos. Puedes usar limpieza por plasma (Glow Discharge) de alta energía o incluso lavados con solventes y ácidos que destruirían cualquier película de carbono o polímero. Esto permite reutilizar el soporte en ciertos flujos de trabajo o asegurar una superficie libre de hidrocarburos antes de la observación.
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¿Qué tan frágil es la membrana y cómo se debe manipular?
Aunque el nitruro de silicio es muy duro, la membrana es extremadamente delgada (típicamente entre 10 nm y 200 nm). Es muy sensible a la presión directa y a las ondas de choque (como un soplido fuerte o ultrasonidos potentes). Debe manipularse siempre sujetando el marco de silicio de 3 mm con pinzas de precisión, evitando cualquier contacto físico con la ventana central transparente.












