SuPro S20 – Ion sputter coater de alto vacío con dual target

Recubridor por sputtering de alto vacío con doble target, diseñado para la preparación de muestras para SEM y FE-SEM de alta resolución. Su tecnología de magnetron sputtering dual-target permite la deposición de capas conductoras finas, homogéneas y reproducibles, mejorando significativamente la calidad de imagen y la estabilidad del análisis.

• Preparación de muestras para SEM / FE-SEM

• Recubrimiento conductor de materiales no conductores

• Muestras 3D complejas: polvos, fibras, superficies porosas

• Análisis de microestructura y caracterización de materiales

  • Tecnología Dual-Target Magnetron Sputtering
    Compatible con targets de Au, Pt, Pd, Ir y aleaciones como Pt-Au o Pt-Pd, adaptándose a distintos requisitos de resolución y contraste.

  • Sistema de alto vacío ultra limpio (oil-free)
    Reduce la contaminación y garantiza recubrimientos estables y reproducibles.

  • Plataforma rotatoria e inclinable
    Asegura una cobertura uniforme incluso en muestras con geometría compleja o relieve pronunciado.

  • Funcionamiento automático con pantalla táctil
    Manejo intuitivo, rápido y sin curva de aprendizaje.