Sustratos de sílice fundida alta pureza – microscopía óptica

Estos sustratos de sílice fundida presenta una excelente transmisión en el rango UV-visible, baja expansión térmica y alta resistencia química, lo que lo convierte en una opción óptima para entornos exigentes de laboratorio. El pulido en ambas caras garantiza una superficie uniforme y libre de imperfecciones, adecuada para deposición de películas delgadas, análisis espectroscópico y como base para experimentación en óptica de precisión.
Gracias a su estabilidad dimensional y propiedades dieléctricas, es ampliamente utilizado en microscopía electrónica, óptica láser y caracterización de materiales. Su formato compacto de 1 x 1 mm y grosor de 1,0 mm facilita su integración en sistemas experimentales y dispositivos personalizados.